南大光电ArF光刻胶取得重大突破
据悉，南大光电的ArF光刻胶正在进行客户测试，这意味着国内的ArF光刻胶已经从研发开始走向生产。南大光电的193nm 光刻胶项目将达到年产25吨的生产规模，产品将满足集成电路行业需求标准。
南大光电ArF光刻胶取得重大突破
楼主 fsjc680435
- 原贴fsjc68
- 2020-05-23 14:22
点赞 0
反对 0
举报 0
收藏 0
打赏 0
评论
上一篇：微软耳机新专利曝光
微软耳机新专利曝光该款双模耳机支持基于指纹识别的用户账户登录功能，经过识别处理的数据可存储在耳机本地，用于认证预设的不同用户，即便设备本体处于休眠状态，指纹传感器和相关电路也可以被唤醒来工作。下一篇：华为发布CableFree技术
华为发布CableFree技术CableFree采用无线缆馈电设计、一体化集成移相器设计等革命性技术和工艺，使天线集成度跨越式提高，使得基站天线集成度、辐射效率、功率容量等关键能力获得重大突破。更多城市地区全国城市联盟